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                    硅膠產品怎么去除靜電,解決表面防塵問題

                    文章出處:廣東帝博科技有限公司 人氣:-發表時間:2020-12-10

                      要生產出令客戶滿意的硅橡膠制品,表面處理工藝就很重要,除了印刷之外,還有就是要做好防塵。因為硅膠含有靜電,這就使得產品很容易吸附灰塵、雜質和毛發。那么硅膠產品怎么去除靜電,解決表面防塵問題呢?

                      理論上,硅膠表面存有氧氣原子,帶負極和靜電,塵粒則帶有正極,因此塵粒和硅膠靜電表面可互相吸引,使表面沾塵難于清理,影響產品外觀。針對硅膠表面容易沾塵的問題,硅膠制品廠致力研究解決方案,結果發現,利用等離子表面改性技術可改善有關表現,最終成功以等離子體輔助化學氣相沉積(PECVD)技術,達到優化產品表面性質的效果。

                      受靜電影響,一般硅膠容易沾塵,廠商若以傳統化學涂層方法,防塵及潤滑涂層功效只可維持數個月。好的方法是以等離子能量將硅膠表面的氧氣原子改性,將負極硅膠表面改為正極,過程中使用無害的有機化學品,不會排出污染廢料,因此是清潔生產工藝。其較低靜電量特質,防塵效用高,適用于手表表帶等,亦可用于醫療設備。

                      等離子體表面處理技術適用于纖維、聚合物和塑膠等物料,亦可應用于清洗、活化及蝕刻金屬、塑膠與陶瓷材料的表面部分,改變材料表面的物理特征。硅膠產品防塵處理環保工藝,可有效解決硅膠靜電、容易沾塵問題,延長產品壽命,是一種硅膠表面處理工藝。它可應用于所有硅膠及相關產品。

                      高能量脈沖式等離子磁控濺射技術(HPPMS)是結合「高能量」和「脈沖式」兩大特征的新型磁控濺射系統。在鍍層過程上,電源扮演重要的角色,采用「高能量」和「脈沖式」的放電方式,可于少于2微秒的短時間,發出高達1500V輸出電壓的強大能量,猶如閃電現象。由于過程中釋放大量的離子,消除鍍膜的內應力,因此可制成厚離子鍍層,無損產品或工件的表面。這種方式可提高離化率(IonizationRate),即改善涂層在產品表面的附著力。

                      高能量脈沖式等離子磁控濺射技術,能超越傳統的磁控濺射方法,制作出高質量多于3μm的厚離子鍍層。由于高能量脈沖方式有利增加離子的密度,不但加強鍍層與底材之間的接合力,亦可減低表面粗糙度,在功能性部件上可進一步增強耐磨性能及減少替換次數。

                      對裝飾性強的硅膠產品來說,可保持外觀及更耐用,因此以高能量脈沖式制作鍍層,能有效利用等離子體,從而控制涂層的結構,其特點是可沉積在光滑致密的微細結構,提升耐腐蝕性及表面光潔度。又或是可沉積在復雜的幾何工件之上,達致更均勻的涂層。


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